[신화] 中 국제특허출원 3년 연속 1위
[신화] 中 국제특허출원 3년 연속 1위
(베이징=신화통신) 왕천시 기자 = 중국의 국제특허 출원건수가 3년 연속 1위를 기록했다고 중국과학보(中國科學報)가 14일 보도했다. 세계지식재산기구(WIPO)가 최근 발표한 데이터에 따르면 2021년 세계 특허협력조약(PCT) 출원건수는 약 27만7천500건으로 집계돼 2020년보다 0.9% 증가했다. 중국의 PCT 출원은 6만9천540건으로 2020년보다 0.9% 늘었다. 미국·일본·한국 및 독일은 각각 5만9천570건, 5만260건, 2만678건, 1만7천322건을 출원했다. 화웨이는 지난해 6천952건을 출원해 PCT 출원 세계 1위를 차지했다. 중국의 저장(浙江)대학은 306건을 출원해 교육기관 중 2위를 기록했다.
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