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‘반도체 기술 유출’ 삼성전자 前 수석연구원 구속영장

삼성 독자개발한 20나노 D램 공정도 700개 빼돌려
유출 기술, 中 기업 청두가오전 제품 개발에 사용돼

서울 서초구 삼성전자 서초사옥의 모습.[사진 연합뉴스]
[이코노미스트 김윤주 기자] 서울경찰청 안보수사대는 삼성전자가 독자 개발한 반도체 핵심 기술을 중국에 유출한 전직 수석연구원에 대해 구속영장을 신청했다고 15일 밝혔다.

경찰에 따르면 전 연구원 A씨는 2014년 삼성전자가 독자적으로 개발한 20나노 D램 반도체 기술 공정도 700여개를 무단 유출해 중국 기업 청두가오전이 제품 개발에 사용하게 한 혐의(산업기술보호법 위반)를 받는다.

경찰은 지난해 현직 청두가오전 임원인 A씨의 자택을 압수수색하는 과정에서 이 공정도를 발견해 수사해온 것으로 전해졌다.

경찰은 지난해 10월 청두가오전의 의뢰를 받고 삼성전자와 SK하이닉스의 임직원들을 대거 빼내 중국 측으로 옮겨가는 데 가담한 혐의를 받는 컨설팅 업체와 헤드헌팅 업체 10여 곳도 압수수색한 바 있다.

A씨의 구속 전 피의자 심문(영장실질심사)은 오는 16일 오전 10시30분 서울중앙지법에서 열린다.

아울러 경찰은 반도체 기술인력의 대규모 중국 유출 정황도 포착해 수사 중이다.

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