[이코노미스트 이지완 기자] 삼성전자가 일본에 300억엔(약 3000억원) 이상을 투자해 반도체 개발 거점을 신설한다. 이 같은 투자 계획은 일본 현지 매체를 통해 전해졌다.

일본 니혼게이자이신문(닛케이)은 삼성전자가 일본 도쿄 인근 가나가와현 요코하마시에 첨단 반도체 디바이스 연구 관련 거점을 신설할 계획이며, 일본의 소부장(소재·부품·제조장비) 업체와 공동연구에 나설 방침이라고 13일 보도했다.

닛케이는 “삼성전자와 일본 소부장 기업들은 공동연구를 통해 양국의 반도체 생산기술 향상에 나설 것”이라고 예상했다. 그러면서 “일본 정부의 반도체 투자 보조금이 예상된다”며 “이미 삼성전자는 일본 정부 측에 반도체 시설 건설 관련 보조금 수급도 신청한 상태”라고 설명했다.

일본 현지에서는 삼성전자가 100억엔(약 1000억원) 이상의 보조금 지원을 받게 될 것이라고 내다봤다. 최근 일본 경제산업성은 반도체 생산시설 투자에 따른 기업 보조금을 전체 투자액의 최대 절반까지 지급하고 있다. 작년에는 대만 TSMC, 미국 마이크론테크놀로지 등이 일본 정부로부터 보조금을 지급받은 바 있다.

최근 한일 관계가 개선되는 모습을 보이면서 한일 반도체 협력에도 탄력이 붙는 모습이다. 양국의 반도체 협력은 지난 7일 한일 정상회담에서도 논의된 바 있다. 이번 회담에서 윤석열 대통령과 기시다 후미오 일본 총리는 양국의 협력으로 견고한 반도체 공급망을 구축할 필요가 있다는 데 의견을 모았다. 다만 삼성전자 측은 닛케이 보도와 관련해 “아직 결정된 바 없다”는 입장이다.

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