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'70조원' 규모 美 반도체 지원법 통과 전망…우리기업 득실은?

대규모 지원 유리, 중국 투자 제약은 지켜봐야
우리 정부, 인프라 등 반도체 산업 지원계획

 
 
 
삼성전자가 미국 텍사스주 테일러시에서 추진하는 170억 달러(약 21조원) 규모의 파운드리(반도체 위탁생산) 공장 착공이 미뤄지고 있다. 사진은 삼성전자 테일러시 파운드리 공장 부지. [사진 삼성전자]
미국에서 추진 중인 ‘반도체 지원법’에 대해 통과 가능성이 높게 점쳐지면서 삼성전자 등 우리나라 반도체 기업들이 수혜를 볼 수 있을지에 대한 관심도 커지고 있다.  
 
반도체 지원법은 미국 상원과 하원이 중국을 견제하고 자국의 반도체 산업을 육성하기 위해 내놓은 법안이다. 지난해 6월과 올해 2월 각각 처리한 ‘미국혁신경쟁법안’과 ‘미국경쟁법안’에서 반도체 산업 지원 내용만 따로 떼어냈다. 민주당과 공화당은 두 법안을 병합·심사하려 했지만, 세부사항에서 이견을 보이면서 입법이 장기화하자 반도체 부분만 먼저 통과시키기로 했다.
 
반도체 산업에 보조금과 인센티브 520억 달러(약 68조원)를 지원하는 내용을 담은 이 법안에는 ▶반도체 제조사에 대한 25% 세금 공제 ▶공공 무선통신망 혁신 자금 15억 달러 지원 ▶국제보안 통신프로그램 5억 달러 제공 등의 혜택도 포함돼있다.  
 
이 법은 미국 민주당과 공화당 양당이 동의하는 내용만 담은 데다 백악관도 지지 의사를 밝히면서 통과 가능성도 높다고 평가받고 있다. 
 
한‧미 반도체 기업들도 반도체 지원법안 통과를 기대하며 직간접적으로 미국을 압박하고 있다는 해석도 나온다. 200억 달러를 투자해 오하이오주 공장을 짓기로 했던 인텔은 최근 착공식을 연기했고, 삼성전자도 170억 달려 규모의 제2파운드리 공장 건설을 미루고 있다. 삼성전자는 텍사스주 테일러에 공장을 짓기로 하면서 지난달 착공식을 열 예정이었는데 아직 일정을 확정하지 않았다. 이를 두고 글로벌 반도체 기업들이 투자를 머뭇거리며 미국 정부의 지원을 기다리고 있다는 해석도 나온다.  
 
문제는 반도체 지원법이 기업에 혜택만 제공하는 결과로 나타나지 않을 수 있다는 점이다. 반도체 지원법에는 미국 정부가 자국 보조금을 받는 기업에 중국 투자를 금지하도록 하는 내용도 포함돼 있기 때문이다.  
 
미국 유력 일간지인 월스트리트저널과 블룸버그통신은 미국에서 반도체 공장을 신설하는 데 자금을 지원받은 기업은 향후 10년간 중국을 비롯한 ‘비우호 국가’에서 반도체 생산 시설을 새로 짓거나 확장하는 것을 금지하는 내용을 포함하고 있다고 최근 보도했다.  
 
구체적인 제약으로는 28㎚(나노미터·10억분의 1m) 미만의 반도체 생산에 관한 내용으로 알려졌다. 스마트폰이나 태블릿PC 등에 14나노미터 이하 미세공정으로 생산되는 고사양 반도체가 사용되는데, 이 조항이 포함될 경우 스마트폰용 반도체를 중국에서 생산하기 위한 투자가 사실상 막히는 셈이다.
 
이 때문에 인텔 등 미국 주요 기업들도 중국 투자와 관련한 제약 조항이 법안에 포함되지 않기를 바라는 것으로 알려졌다.  
 
백악관은 반도체 지원법을 지지하면서도 중국에 대한 견제는 필요하다는 입장이다. 카린 장 피에르 백악관 대변인은 중국 투자 제한 조항을 ‘가드레일(안전장치)’이라고 규정했다. 그는 “인센티브는 중국이 아닌 미국에서 더 많은 투자를 창출하기 위한 것”이라며 “가드레일은 중국에 대한 투자 확대를 저지하는 데 도움이 되기 때문에 이 법안에서 매우 중요하다”고 밝혔다.  
 
다만 우리 기업들은 새롭게 중국에 반도체 공장 투자를 늘리는 등의 계획이 잡히지 않아 큰 문제는 없을 것으로 보고 있다.  
 
취임 후 한국을 첫 방문한 조 바이든 미국 대통령이 윤석열 대통령과 지난 5월 경기도 평택시 삼성전자 반도체공장을 방문, 조만간 양산에 돌입하는 차세대 GAA(Gate-All-Around) 기반 세계 최초 3나노 반도체 시제품에 사인하고 있다.[연합뉴스]

韓, 반도체 지원 약속, 시스템반도체 점유율 10% 목표  

우리 정부도 인프라 지원과 규제 특례 등을 통해 반도체 기업을 돕고 이를 통해 5년간 340조원 이상의 투자를 끌어낸다는 목표를 밝혔다. 이창양 산업통상자원부 장관은 21일 반도체 소재 기업인 동진쎄미켐 발안공장을 방문한 자리에서 이런 내용을 담은 ‘도체 초강대국 달성전략’을 발표했다.  
 
우선 대규모 신·증설이 진행 중인 평택과 용인 반도체단지의 전력·용수 등 필수 인프라 구축비용에 대해 국비 지원을 검토한다. 반도체 단지 용적률도 최대 1.4배(350% → 490%)로 상향해 클린룸 개수를 늘리고 이를 통해 약 9000명 가까이 고용증가 효과를 유도한다는 방침이다.  
 
반도체 산단을 조성할 때 중대한 공익침해 등 명백한 사유가 없다면 인허가 처리를 신속하게 하도록 하는 국가첨단전략산업법도 개정한다. 산단 유치에 따른 이익을 인접 지자체들이 나눌 수 있도록 광역자치단체장의 특별조정교부금 활용 방안도 추진한다.
 
대기업의 설비투자에도 중견기업과 같은 기준을 적용해 기존 6~10%대였던 세제지원을 8~12%로 확대할 예정이다.  
 
이런 지원을 통해 2030년까지 시스템반도체 시장에서 10%의 점유율을 확보하는 것을 목표로 잡았다. 현재 점유율이 3% 수준인 점을 고려하면 3배 넘는 성장을 기대한다는 뜻이다.  
 
이창양 장관은 “산업현장이 계속 진화하듯 이번 정책발표가 반도체 산업 발전전략의 완결은 결코 아니다”라며 “배터리·디스플레이·미래 모빌리티·로봇·바이오 등 미래수요를 견인할 유망 신산업을 ‘반도체 플러스 산업’으로 묶고 경쟁력 강화 방안을 순차적으로 수립할 것”이라고 말했다. 
삼성전자 화성캠퍼스 전경 [사진 삼성전자]

이병희 기자 leoybh@edaily.co.kr

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